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Branchennachrichten: Die kleinste Waferfabrik der Welt

Branchennachrichten: Die kleinste Waferfabrik der Welt

Im Bereich der Halbleiterfertigung steht das traditionelle, groß angelegte und mit hohen Kapitalinvestitionen verbundene Fertigungsmodell vor einer potenziellen Revolution. Auf der bevorstehenden Ausstellung „CEATEC 2024“ stellt die Minimum Wafer Fab Promotion Organization eine brandneue Halbleiterfertigungsmethode vor, die ultrakleine Halbleiterfertigungsanlagen für Lithografieprozesse nutzt. Diese Innovation bringt beispiellose Chancen für kleine und mittlere Unternehmen (KMU) und Start-ups. In diesem Artikel werden relevante Informationen zusammengestellt, um den Hintergrund, die Vorteile, Herausforderungen und möglichen Auswirkungen der Minimum-Wafer-Fab-Technologie auf die Halbleiterindustrie zu untersuchen.

Die Halbleiterfertigung ist eine äußerst kapital- und technologieintensive Branche. Traditionell erfordert die Halbleiterfertigung große Fabriken und Reinräume für die Massenproduktion von 12-Zoll-Wafern. Die Kapitalinvestitionen für jede große Waferfabrik belaufen sich oft auf bis zu 2 Billionen Yen (ca. 120 Milliarden RMB), was es für KMU und Start-ups schwierig macht, in diesen Bereich einzusteigen. Mit dem Aufkommen der Minimum-Wafer-Fab-Technologie ändert sich diese Situation jedoch.

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Minimum-Wafer-Fabs sind innovative Halbleiterfertigungssysteme, die 0,5-Zoll-Wafer verwenden, wodurch der Produktionsumfang und die Kapitalinvestitionen im Vergleich zu herkömmlichen 12-Zoll-Wafern deutlich reduziert werden. Die Kapitalinvestition für diese Produktionsausrüstung beträgt nur etwa 500 Millionen Yen (ca. 23,8 Millionen RMB), sodass KMU und Start-ups mit geringeren Investitionen mit der Halbleiterfertigung beginnen können.

Die Ursprünge der Minimum-Wafer-Fab-Technologie lassen sich auf ein Forschungsprojekt zurückführen, das 2008 vom National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) in Japan initiiert wurde. Dieses Projekt zielte darauf ab, einen neuen Trend in der Halbleiterfertigung durch die Erzielung von Multivariatität zu schaffen , Kleinserienfertigung. Die vom japanischen Ministerium für Wirtschaft, Handel und Industrie geleitete Initiative umfasste die Zusammenarbeit von 140 japanischen Unternehmen und Organisationen zur Entwicklung einer neuen Generation von Fertigungssystemen mit dem Ziel, Kosten und technische Barrieren deutlich zu reduzieren, damit Automobil- und Haushaltsgerätehersteller die Halbleiter produzieren können und Sensoren, die sie benötigen.

**Vorteile der Minimum-Wafer-Fab-Technologie:**

1. **Erheblich reduzierte Kapitalinvestitionen:** Herkömmliche große Waferfabriken erfordern Kapitalinvestitionen von mehr als Hunderten von Milliarden Yen, während die Zielinvestition für Waferfabriken mit minimalem Aufwand nur 1/100 bis 1/1000 dieses Betrags beträgt. Da jedes Gerät klein ist, sind keine großen Fabrikräume oder Fotomasken für die Schaltungsbildung erforderlich, was die Betriebskosten erheblich senkt.

2. **Flexible und vielfältige Produktionsmodelle:** Minimale Waferfabriken konzentrieren sich auf die Herstellung einer Vielzahl von Kleinserienprodukten. Dieses Produktionsmodell ermöglicht es KMU und Start-ups, schnell an ihre Bedürfnisse anzupassen und zu produzieren und so der Marktnachfrage nach maßgeschneiderten und vielfältigen Halbleiterprodukten gerecht zu werden.

3. **Vereinfachte Produktionsprozesse:** Die Produktionsausrüstung in Minimalwaferfabriken hat für alle Prozesse die gleiche Form und Größe, und die Wafertransportbehälter (Shuttles) sind für jeden Schritt universell. Da die Geräte und Shuttles in einer sauberen Umgebung betrieben werden, besteht keine Notwendigkeit, große Reinräume vorzuhalten. Dieses Design reduziert die Herstellungskosten und -komplexität durch lokalisierte saubere Technologie und vereinfachte Produktionsprozesse erheblich.

4. **Geringer Stromverbrauch und Stromverbrauch im Haushalt:** Die Produktionsanlagen in Minimum-Wafer-Fabriken zeichnen sich außerdem durch einen geringen Stromverbrauch aus und können mit normalem 100-V-Wechselstrom für den Haushalt betrieben werden. Diese Eigenschaft ermöglicht den Einsatz dieser Geräte in Umgebungen außerhalb von Reinräumen, wodurch der Energieverbrauch und die Betriebskosten weiter gesenkt werden.

5. **Verkürzte Fertigungszyklen:** Bei der Halbleiterfertigung in großem Maßstab ist in der Regel eine lange Wartezeit von der Bestellung bis zur Lieferung erforderlich, während mit Miniwaferfabriken eine termingerechte Produktion der erforderlichen Halbleitermenge innerhalb des gewünschten Zeitrahmens erreicht werden kann. Besonders deutlich wird dieser Vorteil in Bereichen wie dem Internet der Dinge (IoT), die kleine, hochproduzierte Halbleiterprodukte erfordern.

**Demonstration und Anwendung der Technologie:**

Auf der Ausstellung „CEATEC 2024“ demonstrierte die Minimum Wafer Fab Promotion Organization den Lithografieprozess mit ultrakleinen Halbleiterfertigungsanlagen. Während der Demonstration wurden drei Maschinen aufgestellt, um den Lithographieprozess zu demonstrieren, der die Resistbeschichtung, Belichtung und Entwicklung umfasste. Der Wafer-Transportbehälter (Shuttle) wurde in der Hand gehalten, in das Gerät gestellt und per Knopfdruck aktiviert. Nach Fertigstellung wurde das Shuttle abgeholt und auf das nächste Gerät gesetzt. Der interne Status und der Fortschritt jedes Geräts wurden auf den jeweiligen Monitoren angezeigt.

Nachdem diese drei Prozesse abgeschlossen waren, wurde die Waffel unter einem Mikroskop untersucht und enthüllte ein Muster mit der Aufschrift „Happy Halloween“ und einer Kürbisillustration. Diese Demonstration zeigte nicht nur die Machbarkeit der Minimum-Wafer-Fab-Technologie, sondern verdeutlichte auch deren Flexibilität und hohe Präzision.

Darüber hinaus haben einige Unternehmen begonnen, mit der Minimal-Wafer-Fab-Technologie zu experimentieren. Beispielsweise hat Yokogawa Solutions, eine Tochtergesellschaft der Yokogawa Electric Corporation, schlanke und ästhetisch ansprechende Produktionsmaschinen auf den Markt gebracht, die etwa die Größe eines Getränkeautomaten haben und jeweils mit Funktionen zum Reinigen, Erhitzen und Belichten ausgestattet sind. Diese Maschinen bilden praktisch eine Produktionslinie für die Halbleiterfertigung, und die für eine „Mini-Wafer-Fabrik“-Produktionslinie erforderliche Mindestfläche beträgt nur die Größe von zwei Tennisplätzen, also nur 1 % der Fläche einer 12-Zoll-Wafer-Fabrik.

Allerdings haben Miniwafer-Fabriken derzeit Schwierigkeiten, mit großen Halbleiterfabriken zu konkurrieren. Ultrafeine Schaltungsdesigns, insbesondere in fortschrittlichen Prozesstechnologien (wie 7 nm und darunter), sind immer noch auf fortschrittliche Ausrüstung und Fertigungskapazitäten im großen Maßstab angewiesen. Die 0,5-Zoll-Waferprozesse von Minimalwaferfabriken eignen sich besser für die Herstellung relativ einfacher Geräte wie Sensoren und MEMS.

Minimum-Wafer-Fabs stellen ein vielversprechendes neues Modell für die Halbleiterfertigung dar. Sie zeichnen sich durch Miniaturisierung, niedrige Kosten und Flexibilität aus und sollen neue Marktchancen für KMU und innovative Unternehmen eröffnen. Die Vorteile von Minimum-Wafer-Fabs zeigen sich insbesondere in spezifischen Anwendungsbereichen wie IoT, Sensoren und MEMS.

In Zukunft, wenn die Technologie ausgereift ist und weiter vorangetrieben wird, könnten Miniwafer-Fabriken zu einer wichtigen Kraft in der Halbleiterfertigungsindustrie werden. Sie bieten nicht nur kleinen Unternehmen die Möglichkeit, in dieses Feld einzusteigen, sondern können auch Veränderungen in der Kostenstruktur und den Produktionsmodellen der gesamten Branche vorantreiben. Um dieses Ziel zu erreichen, sind mehr Anstrengungen in den Bereichen Technologie, Talententwicklung und Ökosystemaufbau erforderlich.

Langfristig könnte die erfolgreiche Förderung minimaler Waferfabriken tiefgreifende Auswirkungen auf die gesamte Halbleiterindustrie haben, insbesondere im Hinblick auf die Diversifizierung der Lieferkette, die Flexibilität des Herstellungsprozesses und die Kostenkontrolle. Die weit verbreitete Anwendung dieser Technologie wird dazu beitragen, weitere Innovationen und Fortschritte in der globalen Halbleiterindustrie voranzutreiben.


Zeitpunkt der Veröffentlichung: 25. Okt. 2024